EUV光刻工艺中面临的技术挑战包括：（ ）
A、光源功率不足
B、掩模缺陷难以控制
C、光刻胶易被高能光损伤
D、曝光环境必须充满氮气
发布时间：2025-08-18 16:17:51
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